等离子抛光设备温度控制对抛光有很大的影响、温度越高、相同的产品数量电流会变小,有用来做抛光机的客户就知道,刚刚开始抛光是电流大、然后会慢慢回落一点,原因就是温度造成的、离子激发要么靠温度、要么靠电流、当温度越低、相应电流就越大、下抛光去的瞬间、产品是冷的这是就得靠电流来激发离子、当产品接抛光液、产品会被抛光的温度以及离子轰击的温度加温直到和抛光液同温度、这个时候产品离了激发一部分被温度替代、所以电流也会小一些。
等离子抛光技术采用高能量的等离子体进行表面处理,与传统的机械抛光和化学抛光相比,具有的特点。它可以在短时间内去除表面氧化层和污染物,实现快速的表面处理和修整。此外,等离子抛光技术还可以通过调节处理参数来实现不同材料的表面处理,具有很好的适应性。 等离子抛光技术通过调节处理参数,可以实现对表面的高精度处理、能控制到微米级别。它可以去除表面微小的凹凸和不平整,并且可以对不同材料的表面进行不同的处理,实现精度高、质量优的表面处理效果。此外,等离子抛光技术还可以控制表面的粗糙度和形状,满足不同需求。
电解质等离子抛光过程中受抛光产生的金属微粒的干扰,无法使用电导法对抛光液中有效成分的含量进行检测,为了解决这一问题,基于实验提出了两种确定抛光液有效成分含量的方法。一种方法是利用抛光液中的有效成分低于抛光的电流密度会明显下降的现象,定时测抛光过程中电流值和抛光液温度,以确定是否需要补充。另一种方法是通过实验得到定抛光液温度下抛光量与有效成分消耗量的关系,再在抛光过程中记录抛光量计算抛光液中有效成分含量的方法。
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